Home > 회사소개 > 연혁
2001.08 웨이퍼 도금용 정밀 Pulse정류기(25KHz) 국내최초 개발완료
2001.10 반도체 리드프레임용 Pulse정류기 개발완료
LG마이크론, Chiptron사 PR 정류기 양산 제품 납품(52대)
2002.04 멀티스텝 정류기 개발완료
2002.09 사업자 등록
2003.05 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) Probe Card용 초 정밀
미세도금 개발진행- 서울대학교 IC-MEMS
2004.07 MEMS Wafer용 도금기 개발, 정류기 납품 - 고등기술원
2004.09 삼성종합기술원 Wafer용 정류기 납품
2004.10 국책,대기업 연구소 MEMS Electro SERVICE 시작
2005.06 반도체 Wafer용 도금기 개발, 정류기 납품 -나노종합팹센터
멀티스텝 Programmable 정류기 개발/삼성종합기술원 납품
2005.09 인천남동테크노파크 본사 이전
2006.02 LG마이크론 PPF LINE 초고속 PR 정류기 납품(8대),
J-MICRON PPF LINE 초고속 PR정류기 납품(22대)
2006.03 중소기업청 기술벤처 인증기업 선정
2007.04 LG마이크론 중국(복주) PR/IGBT 정류기 수출
2007.06 중기청 기술혁신개발사업 일반과제 선정(MEMS 도금 분야)
2007.08 연구개발 전담부서 설립
2007.11 우주일렉트로닉스 신규라인용 IGBT 정류기 납품
2008.01 특허출원 샘플링 신호 발생장치
2008.06 특허출원 프로브 카드용 니들
2008.09 ISO 9001 품질인증 획득
2008.10 우주일렉트로닉스 전류감시 장치 통합형 IGBT DC 정류기 개발/납품
2014.03 GC TECH 창립